國產光刻機邁出重要一步，意義重大
發布時間：2023-03-15 1428人看過
光刻機制造巨頭ASML說過：“中國不太可能獨立造出頂級光刻機，但永遠別說永遠。” ASML給自己留了一個話口，沒有說一定或者絕對，而是以“別說永遠”的口吻去對未來的可能性做出評判。可見ASML也不確信中國能不能獨立造出頂級光刻機。以后的事情我們不知道，但可以確定的是，只要不斷取得進步，就一定能離目標更近一些。
國產光刻機傳來好消息，邁出重要一步。得益于芯片制造產業的快速發展，光刻機成為了許多芯片制造商們爭搶的半導體設備。作為造芯片必不可少的設備工具，越頂級的光刻機能夠曝光更多的晶圓，并且在極致光源波長的作用下，光刻出數量越多的晶體管。目前全球最頂級的光刻機是EUV極紫外光源，它的生產制造能力掌握在荷蘭ASML公司手中。短時間內國產光刻機還達不到這樣的成就，可是也不需要氣餒，因為國產光刻機也在不斷傳來好消息，說明并未停止腳步。
只要不斷前進，就能迎來破局的曙光。這一次國產光刻機在曝光光學系統上傳來好消息，邁出重要一步。消息事件的主角是北京國望光學科技有限公司，根據該公司公布的公告顯示，投影光刻機曝光光學系統研發及批量生產基地項目有三家候選人中標，這三家候選人主要負責曝光光學系統該項目的生產廠商潔凈工程。
國望光學在光刻機產業鏈的定位是物鏡系統供應商，這次展開的曝光光學系統研發及生產建設項目，可以說是讓國產光刻機邁出了重要一步。因為國望光學這一生產建設項目的布局規劃幾乎涉及到從成熟工藝到先進工藝的覆蓋，滿足350/280nm 節點到28nm工藝節點及以下的光刻機曝光光學系統產品IDM模式能力，實現集設計研發，生產制造和供貨交付的能力。
不出意外，國望光學這次是實現了光刻機四大件之一的物鏡系統進步了。頂級光刻機有10萬個零部件，這點相信大家都清楚。但光刻機最主要的四大件才是重中之重的關鍵，包括雙工件臺、光學系統、控制軟件、物鏡系統。這四大件當中國內都有各自的供應商巨頭傳來好消息，雙工件臺可以由華卓精科負責，科益虹源負責光源系統，國望光學參與物鏡系統的打造，至于控制軟件還有待完善產業鏈。
雖然距離國外EUV光刻機的水準還有路要走，可經過日積月累的進步后，一定能迎來轉機。北京國望光學正在開展的曝光光學系統研發生產建設項目已經進入到關鍵階段，從公布廠房潔凈工程候選人時就知道，國產光刻機已經邁出了重要一步。一旦生產基地如期在2023年投入使用，勢必實現國產光刻機產業鏈的核心項目突破。作為光刻機的四大件之一，解決了一個再去解決第二個難題，一步步向前，直至目標。
邁出這一步有何意義？國內并非沒有自己的光刻機產業鏈，大家只看到了ASML有何種光刻機制造實力，其實只要有去了解國產光刻機的產業鏈結構，會發現很多關鍵的零部件生產商都是有的。
而這些產業鏈技術最終組裝成整機光刻機，上海微電子參與最終的設備制造，出廠銷售。所以造光刻機不是一家公司的事，而是需要整個產業鏈的一起努力。有人說ASML最強的實力是整合產業鏈而不是造光刻機，這句話是有一定道理的。ASML對外進口了大量先進零部件，國外技術占比90%，若不是得到來自世界各國供應商的支持，ASML也走不到這一步。這也告訴我們不積跬步，無以至千里，不積小流，無以成江海。意思就是不去積累每一步的路程，怎么能到達千里之外。江河入海的過程中持續凝聚力量，最終厚積薄發。
所以國望光學為國產光刻機邁出這一步，意義是十分重大的。不僅為國產光刻機補齊了一大供應鏈缺口，而且有望實現在28nm及以下的工藝突破。外界可能意識不到突破28nm及以下工藝節點的重要性，目前國產芯片制造技術已經可以實現14nm工藝的量產，中芯國際參與芯片制造。可是掌握技術是一回事，有沒有國產供應鏈的參與又是另外一回事了。
寫在最后。中芯國際實現14nm芯片量產，靠的是進口ASML的DUV光刻機，可如果國產光刻機能夠實現28nm以下節點的突破，很有可能觸及到DUV光刻機的工藝程度。那么距離最高的EUV光刻機技術就不會太過于遙遠了。當然，現在的目標是走好每一步，不需要過于著急，穩扎穩打最重要。
