二氧化硅在光學領域中的應用前景
發布時間：2022-11-21 1324人看過
二氧化硅具有優異的光透過性、絕緣性、抗磨性、較寬的禁帶寬度以及化學惰性等性能，作為真空鍍膜材料在光學、微電子等領域已經得到廣泛應用，如
光學系統中的增透減反膜、微電子器件上的介電層等。
在光學領域中的應用納米材料合成的單層薄膜和多層薄膜主要用來作為紅外線反射材料。納米微粒的膜材料在燈泡工業中有著良好的應用前景。20世紀80年代以來，人們用納米SiO2（VK-SP30）和TiO2制成多層干涉膜，襯在燈泡罩的內壁，結果不但透光率好，而且有很強的紅外反射能力。
二氧化硅還可用于光纖端頭的鍍膜使用，在高真空環境中，通過膜系設計，與高折射材料例Ta2O5，相互配合鍍膜于光纖端頭，從而達到提升光纖的透過或高反的目的。
二氧化硅與五氧化三鈦搭配使用可以鍍攝像模組類產品（手機鏡頭、相機鏡頭、監控鏡頭等）和濾光片等。主要應用領域：增透膜、冷光膜、濾光器、攝像模組、濾光片。
在半導體領域，二氧化硅常用于二極管鍍膜，提高二極管的環境適應性和可靠性。
二氧化硅還是常見的觸摸屏鍍膜材料，常常搭配鋯氧化物和氧化銦錫一起用于觸摸屏表面的鍍膜。
